VP-RS20等離子體刻蝕機采用真空不銹鋼腔體等離子清洗裝置（CN201821506143.X）技術，對標國際一線廠家，補充國內技術短板，真空腔體不銹鋼材質，功率500W，VP-RS20頻率13.56MHz，容積20L，能對材料起到清潔、刻蝕、活化、改性的作用，滿功率運行3分鐘，腔體溫度不高于45℃，不損傷樣品，適用于半導體刻蝕、芯片刻蝕、碳毯（CF）、微流控芯片PDMS鍵合、ITO導電玻璃、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLASMA處理。
VP-RS20等離子體刻蝕機采用真空不銹鋼腔體等離子清洗裝置(CN201821506143.X) 技術，對標國際一-線廠“家，補充國內技術短板，真空腔體不銹鋼材質，功率500W，VP- RS20頻率13.56MHz，容積20L，能對材料起到清潔、刻蝕活化、改性的作用，滿功率運行3分鐘，腔體溫度不高于45C，不損傷樣品，適用于半導體刻蝕、芯片刻蝕、碳毯(CF)、微流控芯片PDMS鍵合、IT0導電玻璃、纖維、單晶硅片、PET、二氧化硅等幾乎所有材料的PLASMA處理。
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